多晶碎片回收后的清洗方法

    多晶碎片使用后再被回收，表面会有一些杂质灰尘和一些颗粒污染，一般厂家回收后都会进行清洗一番，对于这种能源材料的清洗方法和我们普通的清洗方法不同，主要有两种方法，下面由硅片高价回收厂家--苏州博采亿能新能源，给大家详细介绍。
    一、物理清洗  
    物理清洗有三种方法：
    1、刷洗或擦洗：可除去颗粒污染和大多数粘在多晶碎片上的薄膜。
    2、高压清洗：是用液体喷射多晶碎片表面，喷嘴的压力高达几百个大气压。高压清洗靠喷射作用，片子不易产生划痕和损伤。但高压喷射会产生静电作用，靠调节喷嘴到多晶碎片的距离、角度或加入防静电剂加以避免。
    3、超声波清洗：超声波声能传入溶液，靠气蚀作用洗掉多晶碎片上的污染。但是，从有图形的多晶碎片上除去小于1微米颗粒则比较困难。将频率提高到超高频频段，清洗效果更好。
    二、化学清洗  
    化学清洗是为了除去原子、离子不可见的污染，方法较多，有溶剂萃取、酸洗（硫酸、硝酸、王水、各种混合酸等）和等离子体法等。其中双氧水体系清洗方法效果好，环境污染小。一般方法是将硅片先用成分比为H2SO4:H2O2=5:1或4:1的酸性液清洗。清洗液的强氧化性，将有机物分解而除去；用超纯水冲洗后，再用成分比为H2O:H2O2:NH4OH=5:2:1或5:1:1或7:2:1的碱性清洗液清洗，由于H2O2的氧化作用和NH4OH的络合作用，许多金属离子形成稳定的可溶性络合物而溶于水；然后使用成分比为H2O:H2O2:HCL=7:2:1或5:2:1的酸性清洗液，由于H2O2的氧化作用和盐酸的溶解，以及氯离子的络合性，许多金属生成溶于水的络离子，从而达到清洗的目的。
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